光刻机用透镜

 该镜头为石英材质， A面内径8.1cm，外径11.6cm。B面内径9.8cm,外径11.2，侧面厚度6.2cm, 应用于光刻机精密部件。

光刻机的工作原理主要基于光学投影技术。它通过将光源经过特殊设计的镜头系统进行较高的聚焦，将光线投射到硅片表面上。硅片上涂有光刻胶，而光刻胶的曝光和显影过程将形成所需的线路图案。为了实现更高的分辨率和更高的图案转移，光刻机采用了许多关键技术。镜头系统由多个透镜组成，用于将光线聚焦到硅片上形成图案。高分辨率的镜头系统需要具备较小的像差、较大的视场和较高的光学透过率。近年来，随着纳米技术的发展，透射式光刻逐渐被曝光式光刻替代，采用了更加复杂的镜头系统。

光刻机主要应用于半导体，生物医学，光子学，纳米器件