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VAD工艺自主合成了高等级熔融石英材料，VAD为两步法工艺，通过对松散体进行脱羟和纯化处理，可以实现低羟基和高纯石英玻璃材料制造，具备更低的羟基含量和金属杂质含量，在吸收系数和抗激光损伤方面有较明显优势。
这是开发的optica光纤制造技术的常规VAD（气相轴向沉积）方法进行重大改进的结果。熔融石英材料纯度极高，OH含量远低于传统的直接法，因此是一种可用于半导体和液晶显示行业的合成熔融石英。熔融石英材料在光学特性方面是最先进的技术，因为它除了耐热性、机械强度和耐化学性外，还具有高紫外线透过率、无微夹杂物和耐日晒性。
序号 | 指标 | 单位 | CVD | VAD |
1 | 金属杂质含量 | ppb | ＜500 | ＜100 |
2 | 羟基含量 | ppm | ~1000 | ＜1 |
3 | 1064nm吸收系数 | 10-6/cm | ＜20 | ＜1（可实现） |
4 | 应力双折射 | nm/cm | ＜5 | ＜5 |
5 | 光学非均匀性 | / | ＜5×10-6 | ＜5×10-6 |
6 | 坯料尺寸 | mm | φ500 | φ150 |
主要应用：
本产品可用于半导体、光学和所有物理或化学相关研究的各种工业应用，具有以下应用特点：
1.各种器件的晶片，如TFT（多晶硅薄膜晶体管LCD）、SOI（绝缘体上硅）等。
2.超大规模集成电路和液晶显示器的光掩模基板。
3.ULSI制造工艺用反应堆炉管、夹具和工具。
4.放电灯管。
5.光学元件、透镜、镜子和窗户，用于紫外线和真空紫外线。
我们提供：
熔融石英玻璃毛坯件大料
熔融石英玻璃粗加工坯件
熔融石英玻璃坯件的进一步加工服务，包括切割，成型，抛光，研磨，钻孔，取芯，倒边，倒角，3D巡边，激光雕刻与打标，单面抛光，双面抛光，环抛，离子束抛光加工，磁流变抛光加工，轻量化，沉孔，数控机加工，开槽，真空镀膜，蒸发镀膜，清洗，计量与测量，胶合，光学装配等。
主要优势:
1）填补国内光学材料技术的一项空白
2）纯度极高，OH含量远低于传统的直接法
3）对标国际顶级品牌同类产品质量，但价格有极大的优势
4）优异的耐热性、机械强度和耐化学性，高紫外线透过率、无微夹杂物和耐日晒性
VAD工艺自主合成了高等级熔融石英材料，VAD为两步法工艺，通过对松散体进行脱羟和纯化处理，可以实现低羟基和高纯石英玻璃材料制造，具备更低的羟基含量和金属杂质含量，在吸收系数和抗激光损伤方面有较明显优势。
这是开发的optica光纤制造技术的常规VAD（气相轴向沉积）方法进行重大改进的结果。熔融石英材料纯度极高，OH含量远低于传统的直接法，因此是一种可用于半导体和液晶显示行业的合成熔融石英。熔融石英材料在光学特性方面是最先进的技术，因为它除了耐热性、机械强度和耐化学性外，还具有高紫外线透过率、无微夹杂物和耐日晒性。
序号 | 指标 | 单位 | CVD | VAD |
1 | 金属杂质含量 | ppb | ＜500 | ＜100 |
2 | 羟基含量 | ppm | ~1000 | ＜1 |
3 | 1064nm吸收系数 | 10-6/cm | ＜20 | ＜1（可实现） |
4 | 应力双折射 | nm/cm | ＜5 | ＜5 |
5 | 光学非均匀性 | / | ＜5×10-6 | ＜5×10-6 |
6 | 坯料尺寸 | mm | φ500 | φ150 |
主要应用：
本产品可用于半导体、光学和所有物理或化学相关研究的各种工业应用，具有以下应用特点：
1.各种器件的晶片，如TFT（多晶硅薄膜晶体管LCD）、SOI（绝缘体上硅）等。
2.超大规模集成电路和液晶显示器的光掩模基板。
3.ULSI制造工艺用反应堆炉管、夹具和工具。
4.放电灯管。
5.光学元件、透镜、镜子和窗户，用于紫外线和真空紫外线。
我们提供：
熔融石英玻璃毛坯件大料
熔融石英玻璃粗加工坯件
熔融石英玻璃坯件的进一步加工服务，包括切割，成型，抛光，研磨，钻孔，取芯，倒边，倒角，3D巡边，激光雕刻与打标，单面抛光，双面抛光，环抛，离子束抛光加工，磁流变抛光加工，轻量化，沉孔，数控机加工，开槽，真空镀膜，蒸发镀膜，清洗，计量与测量，胶合，光学装配等。
主要优势:
1）填补国内光学材料技术的一项空白
2）纯度极高，OH含量远低于传统的直接法
3）对标国际顶级品牌同类产品质量，但价格有极大的优势
4）优异的耐热性、机械强度和耐化学性，高紫外线透过率、无微夹杂物和耐日晒性
