半导体光掩模板石英基板

光掩膜版是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版。

光掩膜版一般也称光罩，是微电子制造中光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形，并通过曝光将图形转印到产品基板上，是光刻工艺中最重要的耗材之一。掩膜版作为模具，通过光刻技术将掩膜版上的电路图案复制到芯片或液晶面板玻璃上，从而批量化生产集成电路或液晶面板等产品。

光掩模版可按照组成与产品进行分类。光掩膜版主要由基板与遮光膜两部分组成，其中基板可分为透明树脂基板和透明玻璃基板，玻璃基板更为常用，按照玻璃材质可细分为合成石英、硼硅玻璃和苏打玻璃三类，最主要用于亚微米光刻的投影光掩膜版衬底材料是合成石英。铬版主要由铬质遮光膜与石英基板组成，由于其精度高、耐用性好，广泛应用于在微电子制造领域。

工艺

1、材料合成

•金属杂质降低

•透过率提升

•羟基含量控制

2、材料成型

•形状和尺寸调整

•光学均匀性改善

•应力消除

3、材料光学加工

•面型加工

•尺寸加工

•抛光加工

4、产品测试

•透过率

•光学均匀匀性

•应力双折射

应用

包括平板显示、集成电路、触摸屏、电路板等。

光掩模石英基板要求

•高光学均匀性

•低应力双折射

•高透过率和透过率均匀性

•抗激光损伤和低缺陷。